拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機設備(bei)是一種電(dian)動(dong)工具，拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機設備(bei)由底(di)座(zuo)(zuo)、拋(pao)(pao)盤(pan)、拋(pao)(pao)光(guang)(guang)織(zhi)(zhi)物、拋(pao)(pao)光(guang)(guang)罩及蓋等基本元(yuan)件(jian)組成。 電(dian)動(dong)機固(gu)定在(zai)底(di)座(zuo)(zuo)上(shang)，固(gu)定拋(pao)(pao)光(guang)(guang)盤(pan)用(yong)的(de)(de)(de)錐套通(tong)過(guo)螺釘與電(dian)動(dong)機軸相(xiang)連。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)織(zhi)(zhi)物通(tong)過(guo)套圈緊(jin)固(gu)在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)盤(pan)上(shang)，電(dian)動(dong)機通(tong)過(guo)底(di)座(zuo)(zuo)上(shang)的(de)(de)(de)開(kai)關接通(tong)電(dian)源起動(dong)后，便可用(yong)手對試樣施(shi)加壓(ya)力在(zai)轉動(dong)的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)盤(pan)上(shang)進(jin)行拋(pao)(pao)光(guang)(guang)。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過(guo)程中加入(ru)的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)液可通(tong)過(guo)固(gu)定在(zai)底(di)座(zuo)(zuo)上(shang)的(de)(de)(de)塑料盤(pan)中的(de)(de)(de)排水管流(liu)入(ru)置(zhi)于拋(pao)(pao)光(guang)(guang)機設備(bei)旁的(de)(de)(de)方盤(pan)內。 拋(pao)(pao)光(guang)(guang)罩及蓋可防止灰(hui)土及其他雜物在(zai)機器不使用(yong)時(shi)落在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)織(zhi)(zhi)物上(shang)而(er)影響(xiang)使用(yong)效(xiao)果。

　　工作原理：

　　拋(pao)(pao)光機(ji)設備操(cao)作的(de)關鍵是要設法得到最大(da)的(de)拋(pao)(pao)光速率(lv)，以便盡快除去磨光時產生的(de)損(sun)(sun)(sun)傷(shang)(shang)層。同時也要使拋(pao)(pao)光損(sun)(sun)(sun)傷(shang)(shang)層不會(hui)影響最終觀察(cha)到的(de)組織，即(ji)不會(hui)造成假(jia)組織。前者要求(qiu)使用較粗的(de)磨料，以保證有較大(da)的(de)拋(pao)(pao)光速率(lv)來去除磨光的(de)損(sun)(sun)(sun)傷(shang)(shang)層，但(dan)拋(pao)(pao)光損(sun)(sun)(sun)傷(shang)(shang)層也較深;后者要求(qiu)使用最細(xi)的(de)材料，使拋(pao)(pao)光損(sun)(sun)(sun)傷(shang)(shang)層較淺，但(dan)拋(pao)(pao)光速率(lv)低(di)。

　　解決這(zhe)個(ge)矛盾的(de)(de)最(zui)(zui)好的(de)(de)辦法就是(shi)把拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)分為兩個(ge)階(jie)段進(jin)行(xing)。粗(cu)(cu)(cu)拋(pao)(pao)目(mu)的(de)(de)是(shi)去除磨(mo)(mo)(mo)光(guang)(guang)(guang)(guang)損(sun)傷層(ceng)，這(zhe)一階(jie)段應(ying)(ying)具有(you)(you)最(zui)(zui)大的(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)速率，粗(cu)(cu)(cu)拋(pao)(pao)形(xing)成(cheng)的(de)(de)表層(ceng)損(sun)傷是(shi)次要的(de)(de)考(kao)慮，不(bu)過也(ye)應(ying)(ying)當盡可能(neng)小;其(qi)次是(shi)精拋(pao)(pao)(或稱終(zhong)拋(pao)(pao))，其(qi)目(mu)的(de)(de)是(shi)去除粗(cu)(cu)(cu)拋(pao)(pao)產(chan)(chan)生的(de)(de)表層(ceng)損(sun)傷，使(shi)(shi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)損(sun)傷減(jian)到最(zui)(zui)小。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)機(ji)設備(bei)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)時，試(shi)樣(yang)磨(mo)(mo)(mo)面與拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤應(ying)(ying)絕對平(ping)行(xing)并(bing)均勻地(di)輕(qing)壓在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤上，注意防止試(shi)樣(yang)飛出(chu)(chu)和因壓力太(tai)大而產(chan)(chan)生新磨(mo)(mo)(mo)痕。同時還(huan)(huan)應(ying)(ying)使(shi)(shi)試(shi)樣(yang)自轉并(bing)沿轉盤半徑方向來回移動，以避免(mian)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)織(zhi)物(wu)局部磨(mo)(mo)(mo)損(sun)太(tai)快在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)過程(cheng)中要不(bu)斷添(tian)加微粉懸浮液，使(shi)(shi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)織(zhi)物(wu)保(bao)持一定濕度(du)。濕度(du)太(tai)大會(hui)減(jian)弱拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)磨(mo)(mo)(mo)痕作用(yong)，使(shi)(shi)試(shi)樣(yang)中硬(ying)相呈現(xian)浮凸和鋼中非金(jin)屬夾雜物(wu)及(ji)鑄鐵中石墨(mo)相產(chan)(chan)生“曳尾”現(xian)象;濕度(du)太(tai)小時，由于摩擦生熱會(hui)使(shi)(shi)試(shi)樣(yang)升(sheng)溫，潤滑作用(yong)減(jian)小，磨(mo)(mo)(mo)面失去光(guang)(guang)(guang)(guang)澤(ze)，甚至出(chu)(chu)現(xian)黑斑(ban)，輕(qing)合(he)金(jin)則會(hui)拋(pao)(pao)傷表面。為了達到粗(cu)(cu)(cu)拋(pao)(pao)的(de)(de)目(mu)的(de)(de)，要求轉盤轉速較低，最(zui)(zui)好不(bu)要超過600r/min;拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)時間(jian)應(ying)(ying)當比去掉劃(hua)痕所(suo)需的(de)(de)時間(jian)長些(xie)，因為還(huan)(huan)要去掉變形(xing)層(ceng)。粗(cu)(cu)(cu)拋(pao)(pao)后磨(mo)(mo)(mo)面光(guang)(guang)(guang)(guang)滑，但黯淡無光(guang)(guang)(guang)(guang)，在(zai)顯微鏡下觀察有(you)(you)均勻細致的(de)(de)磨(mo)(mo)(mo)痕，有(you)(you)待精拋(pao)(pao)消除。

　　精拋時轉盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。拋光機設備拋光質量的好壞嚴重影響試樣的組織結構，已逐步引起有關專家的重視。近年來，國內外在拋光機設備的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設備，正由原來的手動操作發展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機設備。