自動拋光機操縱的樞紐是要想(xiang)法得(de)到(dao)最(zui)大(da)的拋光速率(lv)，以便盡快除去磨光時(shi)產生的損(sun)傷(shang)(shang)層。同時(shi)也要使拋光損(sun)傷(shang)(shang)層不會(hui)影響終極(ji)觀察到(dao)的組織(zhi)，即不會(hui)造成假組織(zhi)。

　　前者(zhe)要(yao)求使用較(jiao)粗(cu)的(de)磨(mo)料，以保(bao)證有較(jiao)大的(de)拋(pao)光(guang)速率來(lai)去(qu)除磨(mo)光(guang)的(de)損(sun)傷(shang)層(ceng)，但(dan)拋(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)層(ceng)也較(jiao)深(shen)；后者(zhe)要(yao)求使用最(zui)細的(de)材料，使拋(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)層(ceng)較(jiao)淺，但(dan)拋(pao)光(guang)速率低。

　　解(jie)決這(zhe)個矛盾的最(zui)好的辦法就是把(ba)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)分為兩個階段進行(xing)。粗拋(pao)(pao)目的是去除磨光(guang)(guang)損(sun)傷(shang)層(ceng)，這(zhe)一(yi)階段應具(ju)有(you)最(zui)大的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速率(lv)，粗拋(pao)(pao)形成的表層(ceng)損(sun)傷(shang)是次要的考(kao)慮，不外也(ye)應當(dang)盡可能小；

　　其次是精拋(pao)(或稱終拋(pao))，其目的(de)是去除(chu)粗拋(pao)產生的(de)表層(ceng)損傷，使拋(pao)光損傷減(jian)到最(zui)小。

　　自(zi)動拋光(guang)機拋光(guang)時，試樣(yang)磨面與拋光(guang)盤應絕對(dui)平行并平均(jun)地輕壓在(zai)拋光(guang)盤上，留意防止試樣(yang)飛出和因壓力太大而(er)產生新磨痕。

　　同時(shi)還應使試樣自轉(zhuan)并沿(yan)轉(zhuan)盤半徑方向往返移動，以避(bi)免拋(pao)光織物局(ju)部(bu)磨損太(tai)快在(zai)拋(pao)光過程(cheng)中要(yao)不斷添加微(wei)粉(fen)懸(xuan)浮液，使拋(pao)光織物保(bao)持一定(ding)濕度。

　　濕(shi)度太(tai)大會(hui)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬(ying)相呈現浮凸和(he)鋼中非金(jin)屬夾雜物(wu)及(ji)鑄鐵中石(shi)墨相產生(sheng)(sheng)“曳尾”現象；濕(shi)度太(tai)小時(shi)，因為(wei)摩(mo)擦生(sheng)(sheng)熱會(hui)使試樣升(sheng)溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至(zhi)泛起黑斑，輕合金(jin)則會(hui)拋傷表面。

　　為了達到粗拋(pao)的(de)目的(de)，要(yao)求轉盤(pan)轉速較低，最好不要(yao)超過600r/min；拋(pao)光時間應當比去(qu)掉(diao)劃痕所需的(de)時間長些，由(you)于還要(yao)去(qu)掉(diao)變形層(ceng)。

　　粗拋后磨(mo)面光滑，但(dan)黯淡無(wu)光，在顯微鏡下觀察有平均(jun)細(xi)致的磨(mo)痕，有待精拋消除。