拋(pao)光機是一(yi)(yi)種常(chang)用的電(dian)動工具，拋(pao)光機由底座、拋(pao)盤、拋(pao)光織物、拋(pao)光罩(zhao)及蓋(gai)等基(ji)本(ben)元件組成(cheng)。下(xia)面，我們來作(zuo)一(yi)(yi)個簡單認識。

　　當電動機固(gu)定(ding)在(zai)底座上(shang)的(de)時(shi)候，固(gu)定(ding)拋(pao)(pao)光(guang)盤用的(de)錐套(tao)通過(guo)(guo)螺釘與(yu)電動機軸相連(lian)。拋(pao)(pao)光(guang)織物(wu)通過(guo)(guo)套(tao)圈緊固(gu)在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)盤上(shang)，電動機通過(guo)(guo)底座上(shang)的(de)開(kai)關(guan)接(jie)通電源(yuan)起(qi)動后，便可(ke)用手(shou)對試樣施加壓力在(zai)轉動的(de)拋(pao)(pao)光(guang)盤上(shang)進行(xing)拋(pao)(pao)光(guang)。拋(pao)(pao)光(guang)過(guo)(guo)程中加入(ru)的(de)拋(pao)(pao)光(guang)液可(ke)通過(guo)(guo)固(gu)定(ding)在(zai)底座上(shang)的(de)塑料盤中的(de)排水管(guan)流入(ru)置于拋(pao)(pao)光(guang)機旁的(de)方盤內。 拋(pao)(pao)光(guang)罩及蓋可(ke)防止(zhi)灰土及其他雜物(wu)在(zai)機器不使用時(shi)落在(zai)拋(pao)(pao)光(guang)織物(wu)上(shang)而影響(xiang)使用效果。

　　拋光機的(de)拋光速率(lv)低解決這個(ge)矛盾的(de)最好的(de)辦法就是把拋光分為兩個(ge)階(jie)段進行。

　　粗拋(pao)(pao)目(mu)的(de)(de)是(shi)去除(chu)磨(mo)光(guang)(guang)(guang)損傷層，這一階(jie)段應具有最大的(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)速率，粗拋(pao)(pao)形成的(de)(de)表層損傷是(shi)次要的(de)(de)考慮，不過也(ye)應當盡可能小(xiao)；其次是(shi)精拋(pao)(pao)(或稱終拋(pao)(pao))，其目(mu)的(de)(de)是(shi)去除(chu)粗拋(pao)(pao)產生的(de)(de)表層損傷，使拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)損傷減到最小(xiao)。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)機拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)時，試樣(yang)磨(mo)面與拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)盤應絕對(dui)平行并(bing)均(jun)勻地輕(qing)壓(ya)在拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)盤上，注意防止試樣(yang)飛出(chu)和(he)因壓(ya)力太大而產生新磨(mo)痕。

　　同時，還應(ying)使試樣自(zi)轉并沿轉盤半(ban)徑方向來(lai)回移動，以避免(mian)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)織物(wu)局部磨損太快在(zai)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)過程(cheng)中要不(bu)斷添加(jia)微粉懸(xuan)浮液，使拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)織物(wu)保持(chi)一定濕(shi)度(du)。濕(shi)度(du)太大會減(jian)(jian)弱拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)的(de)磨痕作用，使試樣中硬相(xiang)呈現(xian)(xian)(xian)浮凸和鋼中非金屬夾(jia)雜物(wu)及(ji)鑄鐵(tie)中石墨(mo)相(xiang)產生“曳尾”現(xian)(xian)(xian)象(xiang)；濕(shi)度(du)太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤(run)滑作用減(jian)(jian)小，磨面(mian)失去光(guang)(guang)澤，甚(shen)至(zhi)出現(xian)(xian)(xian)黑(hei)斑，輕合金則(ze)會拋(pao)(pao)(pao)(pao)傷表面(mian)。

　　當(dang)然，我(wo)們(men)為了達到粗拋的目的，要(yao)求轉盤(pan)轉速較(jiao)低(di)，最好不(bu)要(yao)超(chao)過(guo)600r/min；拋光時(shi)間應當(dang)比去(qu)掉劃痕所需的時(shi)間長(chang)些，因為還要(yao)去(qu)掉變(bian)形層。粗拋后磨(mo)面光滑(hua)，但黯淡(dan)無光，在顯微鏡(jing)下觀察(cha)有(you)均勻細致的磨(mo)痕，有(you)待精拋消除。